Plasma Module

Software for Modeling Low-Temperature, Non-Equilibrium Discharge

전류가 흐르는 사각코일이 유전체 위에 있고, 아르곤이 가득 채워진 챔버내부에서 플라즈마가 형성됩니다. 플라즈마는 파워가 전자기장에서 전자로 전달되는 전자기유도에 의해 유지되어 집니다.

저온 비평형 방전을 위한 Plasma Module 

Tailor-Made to Simulate Low-Temperature Plasma Sources and Systems

Plasma Module은 저온플라즈마 해석에 최적화 되어있습니다. 엔지니어와 과학자들은 방전물리현상에 대한 이해와 존재하거나 잠재적인 디자인의 성능을 측정하기 위해서 사용합니다. Plasma Module은 1차원, 2차원, 3차원 모두 해석할 수 있습니다. 플라즈마 시스템은 원래 비선형이 높은 복잡한 시스템입니다. 전기적 입력이나 플라즈마 화학 반응식에 대한 약간의 변화에도 방전 특성이 크게 달라집니다.

Plasmas – A Significant Multiphysics System

저온 플라즈마는 유체역학, 반응공학, 물리역학, 열전달, 물질전달과 전자기학의 융합으로 이루어진 다중물리시스템으로 표현됩니다. Plasma Module은 광범위한 엔지니어링 분야에서 발생하는 비평형 방전현상해석에 최적화되어 있는 툴입니다. 임의의 시스템을 해석하기에 적당한 인터페이스로 구성되어 있으며, DC discharge, Inductive coupled plasma, Microwave plasma등을 해석할 수 있습니다. Plasma Module에서는 사용자 설명서와 모델링 과정이 단계별로 설명되어 있는 예제모델 문서들을 제공합니다

Inductively Coupled Plasmas

Inductively coupled plasmas (ICP) 는 1960년 코팅장비의 열플라즈마에 처음 사용되었습니다. 이 장비는 0.1기압정도에서 동작되었고, 10,000K정도의 가스온도를 발생시켰습니다. 1990년대에는 대형 웨이퍼를 제조 하기 위한 필름가공 산업에서 주로 사용되었습니다. 이 플라즈마는 0.002-1torr정도의 낮은 압력영역에서 동작하였고, 가스온도는 방 온도에 가까웠습니다. 저압 ICP는 넓은 영역에 대하여 상대적으로 균일한 플라즈마 밀도를 제공하는 특징의 플라즈마 입니다. 플라즈마 밀도 또한, 1E18 1/m3 정도로 높고, 그 결과로 방대한 이온 흐름이 웨이퍼 표면에 도달 할 수 있습니다. Faraday Shield가 플라즈마와 코일간의 용량성 결합을 줄이기 위해 사용됩니다. Inductive Coupled Plasma 인터페이스는 전자와 고주파 전자기장의 복잡한 연동을 자동으로 처리해 줍니다.

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